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减反射镀膜（AR镀膜/AR玻璃）
减反射镀膜，亦称增透膜或AR玻璃，是一种通过特殊表面处理提升透光率的镀膜玻璃。该技术在光学元件表面沉积功能薄膜，旨在降低表面反射，增强光学系统的透射效率。
选用适宜的薄膜沉积工艺对提升镀膜质量与产能至关重要。
HCVAC基于薄膜工艺技术视角，研发并生产专用于光学领域的真空镀膜系统。凭借在镀膜工艺开发中积累的深厚经验，我们确保所有部件满足工艺技术要求，从而提供多样化的先进镀膜系统解决方案。
盖板玻璃（G2.5~G8.5）
抗反射镀膜：减少环境光反射，提升屏幕在强光下的可视性。
抗指纹镀膜：沉积疏油疏水层，减少指纹和油污附着，易于清洁。
装饰镀膜：在玻璃边缘或特定区域镀制黑色或其他颜色的边框。
电磁屏蔽镀膜：透明导电膜，用于高端设备防止信号泄露或干扰。
底层玻璃基板
透明导电电极：在TFT-LCD或OLED阵列中，作为像素电极。
触控传感器：在玻璃上直接制作ITO触控电路。
薄膜封装：用于OLED显示器的薄膜封装，保护有机发光材料免受水氧侵蚀。
显示屏玻璃镀膜几乎全部采用磁控溅射技术，因为它能提供无与伦比的大面积均匀性、膜层纯度和精确的膜厚控制。
| 应用领域 | 主要膜层材料 | PVD工艺 | 技术目标与挑战 |
|---|---|---|---|
| 抗反射镀膜 | 高折射率层： Nb₂O₅, TiO₂, ZrO₂ 低折射率层： SiO₂ | 反应磁控溅射 | 目标： 将反射率降至0.5%以下，提升透过率至97%以上。 挑战： 纳米级膜厚控制、大面积均匀性、膜层致密性、颜色中性。 |
| 抗指纹镀膜 | 氟碳聚合物 | 等离子体增强化学气相沉积 | 目标： 获得低表面能（~10-15 mN/m），水接触角>110°。 挑战： 与底层附着力、耐磨性、透光性。 |
| 装饰边框 | 铬、氧化铬、合金 | 直流/反应磁控溅射 | 目标： 颜色一致、高附着力、边缘锐利。 挑战： 遮蔽工装设计、无粉尘污染。 |
| 透明导电膜 | ITO | 反应磁控溅射 | 目标： 低方阻（可至10-100 Ω/□）、高透过率（>85%）。 挑战： 导电性与透过率的平衡、低温工艺（柔性基板）、刻蚀性能。 |
| 电磁屏蔽 | 金属网格、ITO | 直流/反应磁控溅射 | 目标： 高屏蔽效能、高透明度。 挑战： 莫尔纹控制、微细图形化。 |
| 薄膜封装 | Al₂O₃, SiO₂, SiNx | 反应磁控溅射 或 原子层沉积 | 目标： 形成致密无缺陷的水氧阻挡层，水汽透过率<10⁻⁶ g/m²/day。 挑战： 薄膜本征应力控制、缺陷密度、多层结构集成。 |
